Reihe: Munich Intellectual Property Law Center. Band: 26
Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.
Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.
Buchdetails
| Titel · Autor · Sachgebiet | Verlag · Auflage · ISBN | Aktualität · Status | Bestellen | Merken |
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| Details Punchi Hewage, Nishantha Sampath Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia The Case of Sri Lanka Munich Intellectual Property Law Center, Band 26 |
Nomos 1. Aufl. 2015 |
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 Medium: Print
| 978-3-8487-1885-6 | |||
| 01.03.42 Recht der einzelnen Länder (Indien) |
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